Нанесение покрытий в вакууме широко применяется в различных областях промышленности от производства конденсаторов и турбинных лопаток до производства упаковки.
Использование плазменных методов делает возможным расширить диапазон наносимых покрытий (любые электропроводящие материалы, полупроводники, их оксиды, нитриды, карбиды другие соединения), управлять энергией и потоками осаждаемых материалов, модифицируя тем самым их свойства.
Из большого многообразия плазменных технологий вакуумно-дуговое и магнетронное осаждение покрытий получили наибольшее распространение. Эти технологии эффективны как с технической, так и с экономической точек зрения, о чем свидетельствует большое количество фирм, производящих промышленное оборудование для нанесения различных функциональных покрытий (антикоррозионных, износостойких, термостойких, антифрикционных, защитных, антиэмиссионных, биологически совместимых, декоративных многих других).
Эта техника постоянно совершенствуется, открываются ее новые технологические возможности (осаждение нанослоёв, формирование нанокомпозитов и др.). Однако основа технологического процесса остается неизменной - генерация и транспортировка в вакууме плазменных потоков и плазмохимический синтез покрытий в среде активных газов.
НИИЭФА им. Д.В. Ефремова имеет многолетний опыт разработки плазменных технологий и производства оборудования для их реализации, экспортируя эту технику в США, Англию, Германию, Китай и другие страны.
Электродуговые источники генерируют потоки металлической и углеродной плазмы, в среде которой осуществляется плазмохимический синтез уникальных соединений и осаждение их в качестве функциональных покрытий (антикоррозионных износостойких, термостойких, антифрикционных, защитных, антиэмиссионных, биологически совместимых, декоративных и др.).
Электродуговой источник металлической и углеродной плазмы (катодная и анодная
части) с магнитным удержанием дуги на торце катода и магнитной фокусировкой плазменного потока
|
Электродуговой источник металлической плазмы с магнитным удержанием дуги на торце катода
|
Многокомпонентный электродуговой
источник металлической плазмы
|
Электродуговой источник металлической плазмы с магнитным удержанием дуги на поверхности цилиндрического катода
|
Электродуговой источник плазмы бора (с катодом из бора) |
Технические характеристики |
Электродуговой источник металлической плазмы |
|
с неуправляемой дугой |
с магнитным управлением дугой |
|
Рабочий ток, А |
70 -300 |
25-300 |
Рабочий напряжение, В |
15 -30 |
20-40 |
Скорость испарения материала катода, мг/с |
2 -20 |
0,5-20 |
Запас материала, кг |
2 -8 |
0,1-3 |
Нанесение покрытий для обеспечения поверхностных свойств материалов: |
Такие свойства поверхности обеспечивают покрытия: |
1. Д.А. Карпов. Плазменные технологии нанесения покрытий, Новые промышленные технологии, 2003, вып. № 1, стр.38-41. |
Электродуговые источники плазмы
|
|||
Плазмооптический сепаратор очищает (сепарирует) плазменный поток, генерируемый электродуговым источником, от макрокапель и макрочастиц. Принцип его действия заключается в плазмооптической транспортировке заряженной компоненты плазмы по криволинейному каналу, являющемуся оптически непрозрачным для макрокапель и макрочастиц.
Коэффициент прохождения плазменного потока |
0,5 |
Потребляемая мощность, кВт |
2,4 |
Магнитное поле на оси системы, Гс |
500-700 |
Средний радиус системы, м |
0,5 |
Диаметр плазмовода, мм |
140 |
Количество электромагнитных катушек |
7 |
Номинальный ток электромагнитных катушек, А |
3,5-5,0 |
Плазмооптический сепаратор
|
Плазмооптический сепаратор с электродуговым источником на плазменной технологической установке "PETRA" в Институте физики плазмы им. М. Планка, Германия |
Публикации:
1. Д.А. Карпов, Э.Н. Бондарчук, В.С. Кузнецов, В.Н. Литуновский "Снижение содержания макрофракций в вакуумно-дуговом осаждении покрытий", препринт НИИЭФА П-0998, СПб.: ФГУП "НИИЭФА им. Д.В. Ефремова", 2009, 55 с., с ил. |
Поставки:
Плазмооптический сепаратор |
Научно-исследовательский центр "Юлих"
|
||
Научно-исследовательский центр "Россендорф" |
Двухкамерная вакуумно-дуговая установка
"Декор"
Область применения:
Предназначена для промышленного нанеcения
функциональных покрытий: износостойких, антикоррозионных, термостойких,
защитных, и декоративных с широкой цветовой гаммой. Возможно нанесение покрытий
из любых металлов и их нитридных, оксидных и карбидных соединений. |
||
Максимальная потребляемая мощность |
100 кВт |
|
Фоновое давление |
6,7 ×10-4Па (5×10-6 Торр) |
|
Мощность внутрикамерного нагрева |
40 кВт |
|
Источник ионной очистки |
Ток |
150 мА |
Напряжение |
5 кВ |
|
Электродуговой источник |
Ток |
60 А |
Напряжение |
30 В |
|
Максимальный расход воды |
3 м3⁄ час |
1. M.V. Gordienko, V.V. Ivanov, D.A. Karpov et al., Two-chamber vacuum-arc plant "DECOR" for deposition of functional and decorative coatings. Plasma Devices and Operations, 1997, vol. 5,pp. 227-237. |
Название продукта |
Год поставки |
Заказчик |
Город, страна |
Двухкамерная вакуумно-дуговая установка "Декор" |
1994 |
Объединение "Светлана" |
Россия |
This text will be replaced
Установка
предназначена для нанесения функциональных (износостойких, антикоррозионных,
термостойких, антифрикционных, антиэмиссионных, защитных и др.) покрытий на
крупногабаритные элементы космической техники (трубы, листы, антенны и пр.).
Она обеспечивает вакуумную откачку, нагрев и финишную ионную очистку
напыляемых изделий, генерацию газовой среды, требуемой для проведения
технологических процессов напыления, нанесение покрытий на три вида изделий:::::
|
Технические характеристики ВДНУ
Вакуумная камера (нержавеющая сталь, водоохлаждаемая): |
внутренний диаметр, мм |
2400 |
внутренний длина, мм |
4400 |
Вакуумная откачка (на основе криосорбционных насосов) |
предельное остаточное давление, Па |
5 ×10-4 |
время откачки до предельного остаточного давления, час |
1 |
Внутрикамерный нагрев изделий (с возможностью регулировки): |
максимальная мощность, кВтт |
55 |
максимальная температура нагрева изделий, °С |
400 |
Система подачи технологических газов: |
(4 канала), см 3/мин |
0 ÷ 1000 |
Механизмы внутрикамерного перемещения изделий: |
держатель для труб (длиной до 3 м, диаметром до 60мм), перемещение, |
держатель для листов (длиной до 2 м, шириной до 1 м), |
|
держатель для антенны (диаметром до 2 м), |
|
Система источников ионной очистки изделий: 11 источников |
ток ионного пучка, мА |
150 ± 30 |
рабочее ускоряющее напряжение, кВ |
1 ÷ 4 |
Система электродуговых источников металлической плазмы |
рабочий ток, А |
40 - 130 |
рабочее напряжение, В |
25 - 35 |
Источник импульсного напряжения смещения, подаваемого на изделие:
|
напряжение импульса, В |
0 ÷ 1000 |
ток импульса, А |
0 ÷ 70 |
частота следования импульсов, Гц |
25 ÷25000 |
коэффициент заполнения импульса, % |
5 ÷50 |
Система общего электропитания и управления установкой: |
программно-логическое управление вакуумной |
откачкой, работой ионных и дуговых источников, |
|
возможность компьютерного управления установкой. |
|
максимальная потребляемая мощность, кВт |
150 |
максимальный расход воды, м3 /час |
6,2 |
1. В.В. Иванов, Д.А. Карпов, В.А. Крылов, В.М. Лисичкин, В.Я. Моисеев, С.Г. Саксаганский, А.А. Филиппов, Ren Ni, Ma Zhanji, Вакуумно-дуговая напылительная установка ВДНУ (разработка, изготовление, эксперименты). Вопросы атомной науки и техники, серия «Электрофизическая аппаратура», СПб.: НПО «Профессионал», 2005, Вып.3(29), стр. 116-125. |
Поставки:
Название продукта |
Год поставки |
Заказчик |
Город, страна |
Вакуумно-дуговая напылительная установка ВДНУ |
2004 |
Всекитайская импортно-экспортная компания точного машиностроения |
Китай |
Установка разработана компанией NanoShield и укомплектована тремя электродуговыми источниками НИИЭФА. Использоваие электродуговых источников НИИЭФА позволило компании NanoShield значительно улучшить качество наносимых покрытий (увеличить микротвёрдость и адгезию) и заметно увеличить объём реализации продукции. |
|
Предназначен для отработки новых ионно-плазменных технологий, а также для оказания услуг по ионному азотированию и нанесению различных функциональных и декоративных покрытий.
Ионное азотирование и нанесение покрытий для обеспечения поверхностных свойств материалов: |
Подобные свойства обеспечиваются: |
|
Состав и основные технические характеристики:
Водоохлаждаемая вакуумная камера объемом 1 м3
Система вакуумной откачки, обеспечивающая фоновое давление 6,7×10-4 Па (5×10-6 мм.рт.ст.)
Система внутрикамерного нагрева образцов
Четырехканальная система газонапуска и поддержания давления технологических газов
Система ионной обработки образцов (в тлеющем разряде, в плазме вакуумной дуги, с помощью специальных ионных источников)
Система плазменного осаждения покрытий (с использованием электродуговых, магнетронных источников плазмы и устройства сепарирования плазменных потоков)
Особенность стенда Возможность реализации процессов ионной и плазменной обработки поверхности материалов в различных комбинациях. |
Публикации:
1. Д.А. Карпов, В.Н. Литуновский "Плазменно-иммерсионная ионная имплантация (ПИИИ): физические основы, использование в технологиях, Обзор ФГУП «НИИЭФА им. Д.В. Ефремова» О-104, 65 стр. с ил., Санкт-Петербург, 2009. |
Публикации:
1. Патент РФ №2253410 "Внутрисосудистый протез для восстановления и/или сохранения просвета кровеносного сосуда", Бюл. № 16, 2005 г. |
Производство нанопорошков
This text will be replaced
Вакуумная дуга уникальна тем, что весь
достаточно высокий (100А и более) разрядный ток концентрируется на катоде в
микроскопических (~10 мкм) катодных пятнах (КП), в которых плотности тока и
мощности, концентрация и давление образующейся плазмы может достигать
супервысоких значений: 100 МА/см2 и 109 Вт/см2,
1020 см-3 и 1010 Па соответственно при
длительности существования КП ~10-7
c.
Формирование таких микроразрядов происходит в результате взрывной
электронной эмиссии из микронеоднородностей поверхности катода под
воздействием сильного (~10 МВ/м) локального электрического поля. При
завершении микровзрыва из одного участка поверхности катода (КП) напряжение
в прикатодной области восстанавливается, и микроразряд инициируется на
другом участке поверхности катода (другом КП).
Таким образом, отдельное КП представляет
собой мощный микроскопический и короткоживущий микрореактор, обеспечивающий
мощную генерацию как ионизированного пара материала катода, так и генерацию
сопутствующих микрокапель из области супервысоких давлений и температур в
вакуум. Подобные условия являются чрезвычайно благоприятными для
производства нанопорошков. В отличие от других способов их производства, где
обеспечение приемлемых условий является одной из самых основных и
труднореализуемых задач, в случае вакуумной дуги эти условия предоставлены
самой природой.
Предложены два возможных механизма
производства нанопорошков в вакуумной дуге:
Первый механизм предполагает образование
наночастиц из генерируемых катодным пятном вакуумной дуги жидких микрокапель
(с размерами в диапазоне 0,1 – 1 мкм) путём их электродиспергирования в
результате развития Рэлеевской (капиллярной) неустойчивости относительно
процесса деления при достижении электрического заряда микрокапель некоторой
критической величины. Условия накопления каплями этого заряда могут
задаваться параметрами плазмы межэлектродного промежутка, удовлетворяющими
определённым соотношениям. В условиях вакуумной дуги скорость охлаждения
сформированных при делении нанокапель (не менее 107 К/с)
достаточна для аморфизации материала при их затвердевании, что препятствует
дальнейшему укрупнению частиц за счёт их коалесценции. Учитывая, что
количество генерируемых катодным пятном микрокапель может достигать 105,
а частота формирования катодных пятен до 107 с-1,
скорость генерации микрокапель может достигать 1011 с-1.
Это значение на 4-5 порядков превышает производительность лазерной дисперсии
(при частоте повторения около 10 Гц).
Второй механизм предполагает синтез
наночастиц из генерируемых катодным пятном вакуумной дуги паров материала
катода. Синтез осуществляется путём естественного расширения пара из
катодных пятен в вакуум, его охлаждения и нуклеации. Важным обстоятельством
при этом является малый характерный размер КП (~10 мкм), что резко
ограничивает длительность нахождения синтезированных наночастиц в зоне
нуклеации и роста. В сочетании с однородным по объёму интенсивным
охлаждением пара (что также является следствием малости размеров КП) это
позволяет достигать предельно низких значений размеров и дисперсии размеров
синтезируемых наночастиц. Непровзаимодействовавшая при естественном
расширении в вакуум ионизированная часть пара может быть транспортирована
при помощи электромагнитных полей в зону вторичного взаимодействия, где
может быть реализован вторичный синтез наночастиц. В этом случае диапазон
материалов синтезируемых наночастиц может быть существенно расширен при
введении в зону вторичного взаимодействия реактивных газов (кислорода,
азота, ацетилена и др.) с образованием наночастиц оксидов, нитридов или
карбидов металлов в результате взаимодействия реактивных газов с потоком
транспортируемой плазмы.
Предложенный способ производства
нанопорошков в вакуумной дуге обладает большей технологичностью и
производительностью (которая может увеличиваться неограниченно при
увеличении тока дуги), а также не требует использования потоков
газа-прекурсора и охлаждающего газа в сравнении с другими плазменными и
лазерными методами производства. Кроме того, процесс производства
нанопорошков происходит в вакуумных условиях, что гарантирует высокое
качество продукта.
Публикации:
1. Патент РФ № 2380195 "Способ получения осаждённых на носителе наночастиц металла или полупроводника", Опубликован 27.01.2010, Бюл. № 3. |